硅膠制品光鍍是指將金屬(或介質)膜(或多層金屬)鍍在光學零件表面的工藝過程。光電器件表面鍍膜的目的是達到減少或增加光的反射性、分束性、分色性、濾光性和偏振性等。通常采用的鍍膜方法是真空鍍(物理鍍)和化學鍍。

光涂層原理：

負壓電鍍主要是指需要在較高真空下進行電鍍，包括真空離子蒸發、磁控濺射、 MBE分子束外延、 PLD激光濺射沉積等，所以。蒸發器和濺射器通用。用鍍層材料制成基材，用鍍層材料作為靶材或藥材。基體和靶體在同一真空狀態下。

蒸發層通常是加熱的目標，將表面成分蒸發成自由基或離子，然后通過合成沉積在基底上，膜層上。關于濺射涂層，很容易理解，目標材料被電子或高能激光轟擊，表面成分以自由基或離子的形式濺射，最后沉積在基體表面，形成薄膜。

常用光學涂層材料有以下幾種：

無色晶系粉末，純度高，用它制備光學鍍膜，能提高透光性，不產生崩點。

高熔點、硬度、化學穩定性良好的無色透明晶體。采用該工藝制備的優質Si02涂層，具有良好的蒸發狀態，無崩點。按用途可分為紫外線、紅外線和可見光用。

重質結晶態，折射率高，耐高溫性好，化學性質穩定，純度高，可制得優質氧化鋯涂層，無崩點。